原研（专利）药物公司为了延长其产品生命周期和阻击仿制药的竞争，可以通过诸如新配方（如新剂型、新复方）等途径对已批准上市现有药物“修改”。新配方通常可以通过增加用药便利性、减少给药频率或提高耐受性，进而改善的患者依从性，并为疾病治疗提供额外的益处。

然而，在某些情况下，新配方，特别是片剂和胶囊，在临床上可能不优于原始新药，其潜在的便利性益处可能会被其成本所抵消。
精心策划的产品跳转策略

令人担忧的问题是，新配方构成了原研药物公司产品生命周期管理的精心策略之一。原研药物公司使用这些策略来延长市场排他性保护期，从而在面临仿制药竞争时延长与药物相关的收入。

有研究发现，在第一个仿制药获批进入市场时，原研药物公司通常会提前开发出新配方对仿制药竞争进行阻击。原研药物公司一般会根据仿制药对原研新药的影响程度决定何时采用新配方策略。

战略性地推迟新配方的应用，直到仿制药进入市场时，使仿制药欲达到广泛使用和降低处方药支出的能力复杂化。例如，在一种被称为产品跳转(product hopping)的策略中，原研药物公司可能会大力推广新配方产品而不是首次获批的新药，进而阻止仿制药替代新配方。

由于新配方的延迟供应，以及边际价值不确定的延长释放配方和固定剂量复方药物的进入市场，产品跳跃策略导致了大量的过度医疗支出。
原研药公司如何“策划”新配方

研究者通过对自原研新药获批以来第一个新配方获批时间以及第一个仿制药获批时间的研究，可以看到原研药物公司如何通过产品跳跃策略开发新配方。

通过Drugs@FDA数据库，收集1995年1月1日至2010年12月31日期间美国食品药品管理局（FDA）批准的206种片剂和胶囊剂型的新分子实体（新药）。截至2021年12月31日，在206种新药中，81种新药（39.3%）至少有一种新配方再次获得FDA批准，至少有一种仿制药获得FDA批准新药有167种（81.1%）；65种新药（31.6%）至少一种新配方和一种仿制药同时获得FDA批准。

提前近6年布局

在有新配方获得FDA批准的81种新药中，有1个新配方获批的新药是45种（21.8%），23种（11.2%）新药有2个新配方获批，13种（6.3%）新药有3个及以上新配方获批。
其中，近一半的首批新配方是新剂型（如延长释放剂型），为34种新药（41.9%），首批新配方是复方药物29种（35.8%）超过三分之一，首批新适应症是13种（16.0%)。

在至少有一种新配方获得批准的药物中，从原始新药上市到第一种新配方获批的中位（IQR）时间为4.6（2.3-8.6）年。在至少有1种仿制药的药物中，从原始新药到仿制药首次获得批准的中位时间为11.4（8.1-14.5）年。对于既有新配方又有仿制药的品种，第一个新配方批准在第一个仿制药获批前的中位时间为5.9（1.5-10.9）年。

重磅和加速批准药应用率高

在多变量分析中，新配方在重磅药物（58.2%）和获得加速批准的新药（50.0%）应用可能性明显更高，在孤儿药产品中的比例较小（11.8%）。世卫组织基本药物清单、首创性新药或优于已有类似药物、根据法国药品行业监管机构Prescrire International的评级进行评分与新配方的可能性增加几乎无关。不同治疗区域的新配方的可能性在统计学上也没有显著差异。

和仿制药争速度

在同时至少有一种新配方和一种仿制药的65种新药中，55种（84.6%）新配方在首次仿制药批准前获得批准，10种（15.4%）在仿制药批准后获得批准。由此可见，首次新配方如果不能赶在首次仿制药产品获批准之前上市，其获批的可能性较小。


​
启示

在1995年至2010年FDA批准的206种片剂或胶囊剂型的新药中，超过三分之一的新药在2021前至少有1种新配方获得批准，其中重磅炸弹级和加速批准的药物药物开发新配方获批上市比例明显增高，而其他的治疗价值的衡量标准（包括创新性和临床价值）与新配方的批准比例无关。

由于获得加速批准的药物最常用于治疗癌症，因此，这些药物更有可能再次通过开发新配方以提高患者的便利性或耐受性。
此外，在第一个仿制药获得批准后，新配方的批准急剧减少。

这些结果表明，市场收入是原研药品公司是否以及何时推出获得FDA批准现有药物第一个新配方的主要驱动因素，这说明原研药品公司使用延长产品生命周期管理策略主要目的是维持收入并避免仿制药竞争。

对新配方批准时间的分析表明，原研药物开发者在战略上对其进行时间安排，特别是相对于首次仿制药批准。一旦原研专利药物市场面临仿制药竞争并且难以挽回，原研药物开发者对开发新配方的兴趣可能会减弱。另一项基于新适应症检查新配方的研究发现，32%的药物在仿制药上市前获得了新适应症的批准，但之后此类批准有所下降。

新配方对患者获取、临床护理和医疗保健资金具有重要影响。有的新配方可能对患者的依从性益处不明确，但会给患者和医疗系统带来经济压力。